|
| |
|
|
Diagnostika nízkoteplotního plazmatu pomocí Langmuirovy a emisní sondy
Klusoň, Jan ; Kudrna, Pavel (vedoucí práce) ; Tichý, Milan (oponent)
Magnetronové naprašování patří mezi nejvýznamnější metody výroby tenkých vrstev s velmi rozmanitými fyzikálními vlastnostmi. Jako příklad lze uvést vrstvy vynikající svojí tvrdostí, odolností, nízkým třením a rovněž vrstvy se specifickými elektrickými nebo optickými vlastnostmi. Základní naprašovací proces byl v průběhu vývoje významně zdokonalen a v současnosti existuje celá řada technik magnetronového naprašování. Jednu z těchto technik představuje pulzní magnetronové naprašování. Pulzní režim je zvláště vhodný pro depozici elektricky nevodivých materiálů, neboť při něm nedochází k nabíjení odprašovaného terče a následným obloukovým výbojům. Podstatný je rovněž fakt, že v pulzním režimu lze deponovat na substráty při nižších teplotách. Předmětem této práce je studium nízkoteplotního plazmatu v magnetronovém výboji buzeném pulzním stejnosměrným napětím. Měření bylo realizováno na experimentální aparatuře válcového magnetronu. Diagnostika plazmatu byla prováděna prostřednictvím elektrostatické Langmuirovy a emisní sondy. V časovém a prostorovém rozlišení byly zjišťovány průběhy základních parametrů plazmatu, tj. elektronové koncentrace, elektronové teploty a potenciálu plazmatu. Změřeny byly závislosti na tlaku, délce napěťového pulzu a na velikosti budicího napětí.
|
|
|
Application of low temperature plasma jet systems for the deposition of thin films
Hubička, Zdeněk ; Kment, Štěpán ; Olejníček, Jiří ; Čada, Martin ; Straňák, V. ; Klusoň, J. ; Tichý, M. ; Klusoň, Petr
The low pressure DC pulsed or RF pulsed modulated hollow cathode plasma jets worked on the principle of the reactive sputtering of the hollow cathode usually in the gas mixture of Ar + O2 or N2. The DC pulsed power supplier was applied with combination of the RF source for the plasma jets generation. It was clearly demonstrated that properties of TiO2 and TiO2:N films significantly depended on the plasma parameters. First, the produced films were characterized with the aid of a number of methods (AFM, SEM, XRD, Raman spectroscopy, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), UV–vis spectrometry). Further, the films were judged in terms of their specific optical functionality to generate photocurrents upon being illuminated with spectrally well defined narrow light beams. The parameters of the chemically reactive plasma in the jets were determined using the time-resolved Langmuir probe system. The measurement of the ion energy distribution function was performed by means of the RFA.
|
|
|
Pojišťovnictví v oblasti strojního zařízení
Klusoň, Jan
Bakalářská práce se v teoretické části zabývá vysvětlením základních pojmů v oblasti pojištění, jeho jednotlivými druhy a možnostmi. V praktické části je zaměřena na bližší seznámení se s možnostmi v oblasti pojištění strojů a strojního zařízení a stanovení optimálního pojistného produktu, který maximálně pokryje rizika provozu vybraného zemědělského stroje při dodržení ekonomické výhodnosti. V závěru práce je uveden statistický rozbor nejčastějších příčin zamítnutí pojistných událostí.
|
|
|
The investigation of low pressure HCPJ system for Ti02 film deposition
Perekrestov, Roman ; Kudrna, Pavel (vedoucí práce) ; Klusoň, Jan (oponent) ; Straňák, Vítězslav (oponent)
Název práce: Studium nízkotlakého systému HCPJ pro depozici tenkých vrstev TiO2 Autor: Mgr. Roman Perekrestov Katedra / Ústav: Katedra fyziky povrchů a plazmatu Vedoucí doktorské práce: doc. Mgr. Pavel Kudrna, Dr. Abstrakt: Plazmatické systémy jsou v současnosti široce využívané pro depozice tenkých vrstev jak pro komerční řešení tak i pro výzkumné účely. Zejména tam je pak potřebná detailní znalost parametrů plazmatu v těchto systémech nejen pro zajištění reprodukovatelnosti, ale i pro cílené ovlivňování vlastností deponovaných tenkých vrstev. Cílem disertační práce bylo studium parametrů plazmatu s ohledem na růst a vlastnosti tenkých vrstev vznikajících v systému plazmatické trysky s dutou katodou. Zkoumaným experimentálním zařízením byla plazmatická tryska, která pracovala v stejnosměrném režimu. Pro diagnostiku výboje byla používána Langmuirova sonda, kvadrupólový hmotnostní a optický spektrometr. Teplotu neurálního plynu ve výboji měřil teploměr s optickým vláknem. Růst nanočástic z plynné fáze byl studován pomocí rozptylu světla laserového paprsku. Pro diagnostiku tenkých vrstev Ti/TiO2 bylo použito metod XPS, SEM, AFM, TEM, XRD a EDX. Fotovoltaická účinnost TiO2 byla testována na barvivem senzitizovaném solárním článku. Klíčová slova: plazmová tryska, Langmuirova sonda, nanočástice, oxid titaničitý
|
|
|
Impulsní plazmatické systémy
Klusoň, Jan ; Kudrna, Pavel (vedoucí práce) ; Krčma, František (oponent) ; Čada, Martin (oponent)
Disertační práce se zabývá experimentálním studiem nízkoteplotního plazmatu určeného k přípravě tenkých vrstev metodou fyzikálního naprašování. Popisuje měření, která byla realizována na dvou typech zařízení - na systému nízkotlaké plazmové trysky a na rovinném magnetronu. Hlavní téma práce představuje diagnostika plazmatu při pulzním režimu buzení výboje. Výboj nízkotlaké plazmové trysky byl studován prostřednictvím elektrostatické Langmuirovy sondy, v případě planárního magnetronu byla provedena hmotnostní spektroskopie s energetickým i časovým rozlišením. K porozumění výsledkům dosaženým v pulzně generovaném plazmatu je nezbytná dobrá znalost základního režimu výboje, jímž je kontinuální stejnosměrný režim. Významná část práce je proto věnována právě kontinuálnímu stejnosměrnému režimu výboje. V případě nízkotlaké plazmové trysky je pozornost zaměřena i na charakteristickou vlastnost daného plazmového zdroje, kterou je proudění z trysky.
|
|
|
Studium parametrů plazmatu v plazmatické trysce
Štefániková, Estera ; Tichý, Milan (vedoucí práce) ; Klusoň, Jan (oponent)
Tato bakalářská práce se zabývá diagnostikou nízkoteplotního plazmatu pomocí Langmuirovy sondy. Měření byla provedena na systému plazmové trysky, který je velmi perspektivní zejména pro depozici tenkých vrstev. Kromě různých odolných a průmyslově zajímavých vrstev existují i vrstvy se speciálními elektrickými nebo optickými vlastnostmi, které jiným způsobem připravit nelze. Znalost parametrů používaného plazmatu je nezbytná pro řízení a reprodukovatelnost materiálových depozic. Hlavní přínos předkládané práce spočívá v proměření vertikálních profilů hlavních parametrů plazmatu (elektronová teplota, hustota a střední energie; plovoucí potenciál, potenciál plazmatu) za různých tlaků.
|
|
|
Diagnostika nízkoteplotního plazmatu pomocí Langmuirovy a emisní sondy
Klusoň, Jan ; Kudrna, Pavel (vedoucí práce) ; Tichý, Milan (oponent)
Magnetronové naprašování patří mezi nejvýznamnější metody výroby tenkých vrstev s velmi rozmanitými fyzikálními vlastnostmi. Jako příklad lze uvést vrstvy vynikající svojí tvrdostí, odolností, nízkým třením a rovněž vrstvy se specifickými elektrickými nebo optickými vlastnostmi. Základní naprašovací proces byl v průběhu vývoje významně zdokonalen a v současnosti existuje celá řada technik magnetronového naprašování. Jednu z těchto technik představuje pulzní magnetronové naprašování. Pulzní režim je zvláště vhodný pro depozici elektricky nevodivých materiálů, neboť při něm nedochází k nabíjení odprašovaného terče a následným obloukovým výbojům. Podstatný je rovněž fakt, že v pulzním režimu lze deponovat na substráty při nižších teplotách. Předmětem této práce je studium nízkoteplotního plazmatu v magnetronovém výboji buzeném pulzním stejnosměrným napětím. Měření bylo realizováno na experimentální aparatuře válcového magnetronu. Diagnostika plazmatu byla prováděna prostřednictvím elektrostatické Langmuirovy a emisní sondy. V časovém a prostorovém rozlišení byly zjišťovány průběhy základních parametrů plazmatu, tj. elektronové koncentrace, elektronové teploty a potenciálu plazmatu. Změřeny byly závislosti na tlaku, délce napěťového pulzu a na velikosti budicího napětí.
|
|
| |
|
| |
host ::
RSS.