Original title:
Příprava a charakterizace pokročilých optických metapovrchů
Translated title:
Preparation and characterization of advanced optical metasurfaces
Authors:
Štálnik, Jozef ; Babocký, Jiří (referee) ; Viewegh, Petr (advisor) Document type: Master’s theses
Year:
2026
Language:
eng Publisher:
Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství Abstract:
[eng][cze]
Cieľom tejto práce bolo vykonať rešerš na tému viacvrstvých optických metapovrchov a následne ich vyrobiť za použitia výrobnych metód na prípravu nanoštruktúr. V prvej kapitole je predstavený teoretický základ a prehľad fyzikálnych princípov dielektrických metapovrchov. V druhej kapitole je uvedená rešeršná časť pre motiváciu viacvrstvých metapovrchov. Tretia kapitola pojednáva o výrobných metódach pre prípravu jedno-vrstvých a dvoj-vrstvých metapovrchov. V poslednej kapitole sa už prezentujú výsledky výroby dvoj-vrstvých metapovrchov, kedy hlavným optimalizačným krokom bolo odstranenie polymerného rezistu. Zároveň sa tam prezentujú výsledky výroby a charakterizácie metapolarimetru.
Main goal of this thesis was to conduct a research on multilayer optical metasurfaces and subsequently fabricate them using nanofabrication methods. The first chapter introduces the theoretical background and provides an overview of the physical principles of dielectric metasurfaces. The second chapter presents short review section motivating the study of multilayer metasurfaces. The third chapter discusses fabrication methods for the preparation of single-layer and double-layer metasurfaces. The final chapter presents the results of the fabrication of double-layer metasurfaces, where the main optimization step involved the removal of the polymer resist. In addition, the results of the fabrication and optical characterization of metapolarimeter are presented.
Keywords:
depozícia atomárnych vrstiev; dielektrický metapovrch; dvojvrstvý metapovrch; elektrónova litografia; suché leptanie; viacvrstvý metapovrch; výroba; atomic layer deposition; bilayer metasurface; dielectric metasurface; dry etching; electron beam lithography; fabrication; multilayer metasurface
Institution: Brno University of Technology
(web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library. Original record: http://hdl.handle.net/11012/259798