Original title: Roční zpráva o řešení projektu MPO FR-TI1/574: Optimalizace výrobních postupů v elektronové litografií
Translated title: Annual report, project MPO FR-TI1/574: Optimization of production flow in electron-beam lithography and mastering
Authors: Polívka, L. ; Kolařík, Vladimír ; Mikšík, P.
Document type: Research reports
Year: 2010
Language: cze
Abstract: [cze] [eng]
Elektronový litograf BS600 je elektronově-optické zařízení s tvarovaným svazkem vyvinuté a optimalizované pro výrobu reliéfních mikrostruktur se submikronovým rozlišením. Cílem etapy projektu bylo rozšíření již dříve vyvíjeného expozičního režimu se zmenšeným svazkem tak, aby byl tento režim využitelný pro realizaci difraktivních struktur do celkové velikosti 30 mm x 30 mm. Tohoto cíle bylo dosaženo, jak popisuje předkládaná zpráva. The e-beam writer BS600 is an electron-optical system with a shaped electron beam which was developed and optimized for production of relief microstructures with a sub-micron resolution. The goal of this project period is defined as follows: the extension of previously developed experimental exposure regime with a reduced stamp size should be extended to the production stage such that diffractive structures up to the size of 3 mm x 3 mm could be prepared. The goal was achieved; the results are summarized in this report.
Keywords: electron beam lithography; shaped electron beam
Project no.: CEZ:AV0Z20650511 (CEP), FR-TI1/574 (CEP)
Funding provider: GA MPO

Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR (web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences.
Original record: http://hdl.handle.net/11104/0180850

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-41077


The record appears in these collections:
Research > Institutes ASCR > Institute of Scientific Instruments
Reports > Research reports