Original title: Surface Point Defects in Silicon Related Nanopowders Produced by Pulsed Laser Ablation: IR Evidence of Peroxy Radical SiOO(.)
Translated title: Povrchové bodové defekty v nanopráškách obsahující křemík připravené pomocí pulsní laserové ablace: IR důkaz peroxy radikálu SiOO(.)
Authors: Dřínek, Vladislav ; Vacek, Karel
Document type: Papers
Conference/Event: International Conference Nano 06, Brno (CZ), 2006-11-13 / 2006-11-15
Year: 2008
Language: eng
Abstract: [eng] [cze]
We prepared nanopowder deposits with an increased concentration of certain point defects - silyl Si(.) and peroxy radical SiOO(.) using pulsed laser ablation (PLA). PLA of SiO2 target in He atmosphere (500 Pa) generates SiOO(.) species in conc. 10(20)/g and an exposure of the deposit to ozone pressured 5.10(-3) Pa in flow mode destroys SiOO(.) radical within seconds as detected by EPR and FTIR spectroscopies. In differencial FTIR spectra we observed a negative peak at 1035 cm(-1) that had the same time behaviour as EPR signal. According to literature the predicted stretching vibration in SiOO(.) is at 1080 cm(-1). Připravili jsme nanopráškové deposity se zvýšenou koncentrací určitých bodových depositů - silylu Si(.) a peroxy radikálu SiOO(.) pomocí pulsní laserové ablace (PLA). PLA SiO2 targetu v heliové atmosféře 500 Pa nechává generovat SiOO(.) v koncentraci 10(20)/g a expozice depositu ozonu o tlaku 5.10(-3) Pa v průtokovém režimu nechává zaniknout SiOO(.) radikál během několika vteřin jak bylo zjištěno pomocí FTIR a EPR spekter. V diferenciálním FTIR spektru byl pozorován negativní pík na 1035 cm(-1), jenž měl stejné časové chování jako EPR signál. Podle literatury předpokládaná valenční vibrace v SiOO(.) radikálu je na 1080 cm(-1).
Keywords: point defect; pulser laser ablation; silicon dioxide
Project no.: CEZ:AV0Z4072921 (CEP), IAA400720616 (CEP)
Funding provider: GA AV ČR
Host item entry: Proceedings, ISBN 80-214-3331-0

Institution: Institute of Chemical Process Fundamentals AS ČR (web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences.
Original record: http://hdl.handle.net/11104/0163524

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-39112


The record appears in these collections:
Research > Institutes ASCR > Institute of Chemical Process Fundamentals
Conference materials > Papers