Original title:
SMV-2015-35: Vývoj testovacích preparátů pro REM
Translated title:
SMV-2015-35: Development of test speciments for SEM
Authors:
Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Meluzín, Petr ; Chlumská, Jana ; Král, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Krátký, Stanislav Document type: Research reports
Year:
2015
Language:
cze Abstract:
[cze][eng] Výzkum a vývoj v oblasti realizace přesných reliéfních struktur pomocí mikrolitografických technik v křemíku pro testovaní zobrazování rastrovacích elektronových mikroskopů (REM). Vývoj v oblasti tvorby grafických prvků testovacích struktur. Vývoj zvýšení jakosti a přesnosti kalibračních struktur z pohledu technických postupů pro jejich přípravu.Research and development in the field of realisation of precise relief structure for testing imaging of scanning electron microscopes (SEM) using micro-lithographic techniques of recording in the silicon. Development in the field of creating of graphic elements of test structures. Development of improving the quality and accuracy of the calibration structures in terms of technical processes for their preparation.
Keywords:
e-beam lithography; microlithography; relief structure; silicon etching
Institution: Institute of Scientific Instruments AS ČR
(web)
Document availability information: Fulltext is available at the institute of the Academy of Sciences. Original record: http://hdl.handle.net/11104/0253973