Original title: Optimalizace depozičních parametrů za účelem vytvoření fotokatalytických titanoxidových vrstev metodou PECVD
Translated title: Optimization of deposition parameters in order to create a photocatalytic titanium oxide films produced by PECVD
Authors: PEKÁREK, Michal
Document type: Master’s theses
Year: 2013
Language: cze
Abstract: [cze] [eng]

Keywords: low-pressure deposition; PECVD; photocatalysis; photocatalytic thin films; plasma; plasma discharge; plasma reactor; surface treatment; TiO2; titanium oxide; fotokatalytické vrstvy; fotokatalýza; nízkotlaká depozice; oxid titaničitý; PECVD; plazma; plazmový reaktor; plazmový výboj; povrchová úprava; TiO2
Citation: PEKÁREK, Michal. Optimalizace depozičních parametrů za účelem vytvoření fotokatalytických titanoxidových vrstev metodou PECVD. České Budějovice, 2013. diplomová práce (Mgr.). JIHOČESKÁ UNIVERZITA V ČESKÝCH BUDĚJOVICÍCH. Pedagogická fakulta

Institution: University of South Bohemia in České Budějovice (web)
Document availability information: Fulltext is available in the Digital Repository of University of South Bohemia.
Original record: http://www.jcu.cz/vskp/24547

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-153375


The record appears in these collections:
Universities and colleges > Public universities > University of South Bohemia in České Budějovice
Academic theses (ETDs) > Master’s theses
 Record created 2013-05-08, last modified 2023-01-15


No fulltext
  • Export as DC, NUŠL, RIS
  • Share