Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 6 záznamů.  Hledání trvalo 0.00 vteřin. 
Silver catalysed nanoscale silicon etching in water vapour
Křížek, Filip ; Pikna, Peter ; Fejfar, Antonín
N+-doped silicon substrates were etched by water vapour under the silver nanoparticles acting as a catalyst. Thin silver layer was deposited on two silicon wafers, where one of them was thermally annealed in nitrogen to create silver nanoparticles. Subsequently, both samples were annealed in water vapour and afterwards analysed by Scanning Electron Microscope. The images have shown that the annealed silver nanoparticles burrowed into the silicon substrate in the case of both samples. This new method of silicon etching introduces an alternative way of manufacturing nanohole arrays in silicon substrates.\n
SMV-2017-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM
Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Meluzín, Petr ; Chlumská, Jana ; Král, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Krátký, Stanislav ; Knápek, Alexandr
Vývoj v oblasti realizace přesných reliéfních struktur v křemíku určených pro testování zobrazování v rastrovacích elektronových mikroskopech (REM).
SMV-2016-03: Přesné reliéfní struktury
Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Meluzín, Petr ; Chlumská, Jana ; Král, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Krátký, Stanislav ; Fořt, Tomáš ; Oulehla, Jindřich ; Šerý, Mojmír
Vývoj v oblasti realizace přesných reliéfních struktur pomocí elektronové litografie a dalších ultra precizních mikrovýrobních technik.
Technologie přípravy hlubokých struktur v submikronovém rozlišení
Matějka, Milan ; Kuřitka,, Ivo (oponent) ; Mgr. Petr Klapetek Ph.D (oponent) ; Kolařík, Vladimír (vedoucí práce)
Disertační práce je zaměřena na výzkum a vývoj v oblasti vytváření mikrostruktur technologií elektronové litografie. V úvodní části je provedena rozsáhlá studie technologie elektronové litografie z pohledu fyzikálních principů, strategie zápisu a záznamových materiálů. Následuje popis fyzikálního principu metod leptání pro přenos reliéfních struktur do podložek nebo jejich prohlubování. Vlastní práce se zabývá inovativními postupy při modelování, simulaci, datové přípravě a optimalizaci technologických postupů. Přináší nové možnosti záznamu hlubokých binárních i víceúrovňových mikrostruktur pomocí elektronové litografie a metod plazmatického a reaktivního iontové leptání. Zkušenosti a znalosti z oblastí mikrolitografie a plazmatického i mokrého anizotropního leptání křemíku byly zužitkovány při návrhu procesu výroby nano strukturovaných membrán. Následovalo praktické ověření a optimalizace realizačního procesu přípravy těchto membrán
SMV-2015-35: Vývoj testovacích preparátů pro REM
Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Meluzín, Petr ; Chlumská, Jana ; Král, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Krátký, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti realizace přesných reliéfních struktur pomocí mikrolitografických technik v křemíku pro testovaní zobrazování rastrovacích elektronových mikroskopů (REM). Vývoj v oblasti tvorby grafických prvků testovacích struktur. Vývoj zvýšení jakosti a přesnosti kalibračních struktur z pohledu technických postupů pro jejich přípravu.
SMV-2014-28: Vývoj testovacích preparátů pro REM
Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Meluzín, Petr ; Chlumská, Jana ; Král, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Urbánek, Michal ; Krátký, Stanislav
Náplní práce byl výzkum/vývoj a realizace přesných reliéfních struktur pomocí mikrolitografických technik v křemíku pro testování zobrazování rastrovacích elektronových mikroskopů (REM). Výzkum zahrnuje analýzu grafických vstupu z ohledu jeho použití pro testování metriky skenovacích elektronových mikroskopů, výzkum vhodných technik a postupů pro přípravu reliéfních prvku v křemíku ve vysoké přesnosti a opakovatelnosti.

Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.