Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 45 záznamů.  1 - 10dalšíkonec  přejít na záznam: Hledání trvalo 0.00 vteřin. 
SMV-2020-20: Reliéfní mikrostruktury na principu difraktivní optiky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
SMV-2020-19: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
Design of automated set-up intended for inspection of PMMA coated silicon wafers
Drozd, Michal ; Sobola, Dinara (oponent) ; Knápek, Alexandr (vedoucí práce)
During the coating the substrate with a thin layer of polymer resist several defects can to occur which could damage an exposure by electron beam lithography. The quality of the resist-coated surface prior to the exposure is also very important in terms of the final functionality of the fabricated micro device. The quality of the resist-coated surface can be measured by means of human visual inspection with a visible-light microscope. This bachelor's thesis is focused on the design and assembly of the automated set-up to do this inspection automatically. More precisely, the designed set-up is called WaferScan and it allows to scan a silicon wafer coated with a resist layer. The wafer surface is scanned with an optical camera and the taken images are analyzed using computer to determine the location and the size of the defects and the dust particles in the resist layer. The entire device consists of two moving axes, x and y, (that allow the movement of the camera) and a control electronic circuitry. Software to control the scanning device and the image processing tool were also developed.
SMV-2019-75: Reliéfní mikrostruktury na principu difraktivní optiky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
SMV-2019-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM
Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Meluzín, Petr ; Chlumská, Jana ; Král, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Krátký, Stanislav ; Knápek, Alexandr
Smluvní výzkum se týká vývoj v oblasti přípravy přesných reliéfních struktur v křemíku určených pro testování zobrazování v rastrovacích elektronových mikroskopech (REM). Pro přípravu preparátů jsou vyvíjeny mikro litografické techniky opracování křemíku a další související technologické postupy.
SMV-2019-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
SMV-2019-02: Analýza planárních mikrostruktur vytvářených kombinovaným způsobem zápisu
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj materiálů, technologických postupů a metodiky vytváření planárních mikrostruktur. Příprava a vyhodnocení vlastností tenkých vrstev vhodných pro zápis planárních mikrostruktur, analýza mikrostruktur na elektronovém a konfokálním mikroskopu, příprava masek na litografu pro kombinované expozice, využití dalších technologií – např. UV soukrytovačky masek, RIE a dalších, ověření navržené metodiky, vyhodnocení dosažitelných parametrů, sepsání písemné zprávy.
SMV-2019-05: Fázové mřížky
Krátký, Stanislav ; Matějka, Milan ; Chlumská, Jana ; Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Vývoj přípravy fázových mřížek pro použití ve spektroskopii materiálů. Během vývoje se prozkoumaly možnosti návrhu a přípravy fázových mřížek, které by byly naladěné na dvě odlišné vlnové délky. Teoretické simulace ukázaly, že se mřížka (hloubka mřížky) musí naladit na hodnotu mezi dvěmi zamýšlenými vlnovými délkami, aby se maximalizovaly účinnosti v prvních řádech pro obě vlnové délky. Vzorky byly následně vyrobeny pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání.
SMV-2019-04: Velkoplošné nanášení nanostruktur
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Vývoj sendvičových nanostruktur na dopovaném křemíkovém substrátu. Rozměry nanostruktur a jejich periodicita je na limitu rozměrů, které umožňuje připravit elektronový litograf Raith EBPG5000+. Na dopovaný křemíkový substrát byla připravena tenká nitridová vrstva jako maska pro následné leptání. Pomocí elektronové litografie a vakuového napařování byly nejdříve připraveny zlaté soukrytovací značky nutné pro provedení vícenásobné expozice. V dalším litografickém kroku byla naexponována maska v rezistu, přes kterou se pomocí reaktivního iontového leptání proleptala nitridová maska. Přes nitridovou masku došlo k vyleptání pyramid v křemíku. V třetím litografickém kroku byla pomocí různých strategií zápisu připravena druhá maska pro napaření hliníkové vrstvy v místech dříve vyleptaných pyramid. Proces byl dokončen provedením lift-off techniky okolní plochy.
SMV-2019-03: Tenké membrány
Krátký, Stanislav ; Matějka, Milan ; Chlumská, Jana ; Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Vývoj technologie přípravy tenkých nitridových membrán ve velké ploše pro potřeby spektroskopie pomocí pomalých elektronů. Během vývoje se vyzkoušelo několik různých technik pro přípravu tenkých membrán – mokré leptání, reaktivní iontové leptání, plasmatické leptání a nízkofrekvenční plasmatické leptání. Zároveň byla vyvinuta technika nepřímého měření takto tenkých membrán.

Národní úložiště šedé literatury : Nalezeno 45 záznamů.   1 - 10dalšíkonec  přejít na záznam:
Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.