Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 37 záznamů.  začátekpředchozí21 - 30další  přejít na záznam: Hledání trvalo 0.00 vteřin. 
Selektivní růst kovových materiálů.
Šimíková, Michaela ; Schneeweiss, Oldřich (oponent) ; Čechal, Jan (vedoucí práce)
Diplomová práce pojednává o studiu selektivního růstu tenkých vrstev kobaltu na Si(111) s tenkou vrstvou oxidu křemičitého na mřížkách, které byly vytvořeny metodou fokusovaného iontového svazku, a o růstu a morfologii tenké vrstvy železa rostoucí na substrátu Si/SiO2 bez úpravy. Dále jsou zkoumány vrstvy a-C:H, vliv depozičních parametrů na jejich vlastnosti a poměr vazeb sp2 a sp3. Pro analýzu těchto vrstev jsou použity metody XPS, AFM a SEM.
Tenké vrstvy připravené v RF doutnavém výboji a jejich fyzikálně-chemické vlastnosti
Bránecký, Martin ; Boušek, Jaroslav (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Diplomová práca je v teoretickej časti zameraná na literárnu rešerš zaoberajúcou sa tvorbou tenkých vrstiev, plazmou, analýzou plazmy pomocou hmotnostnej spektrometrie a plazmovou polymerizáciou. Ďalej táto časť popisuje analýzu tenkých vrstiev pomocou optických metód spektroskopickej elipsometrie a FT-IR spektroskopie. Experimentálna časť práce popisuje materiály používané pri príprave tenkých vrstiev ako aj popis aparatúry, ktorá slúži pre prípravu tenkých vrstiev technológiou plazmochemickej depozície z plynnej fázy (PE CVD). Presné monitorovanie a riadenie depozičných podmienok, monitorovanie plazmy a jej produktov hmotnostnou spektrometriou zabezpečia vysokú reprodukovateľnosť prípravy tenkých vrstiev. Posledná časť práce popisuje výsledky merania skupiny vzoriek vytvorených tenkých vrstiev a ich vyhodnotenie elipsometrom, hmotnostným spektrometrom a FT-IR spektroskopom s ohľadom na depozičné podmienky.
Eliminace degradačních procesů kovových tenkých vrstev
Danovič, Jakub ; Šubarda, Jiří (oponent) ; Šimonová, Lucie (vedoucí práce)
Táto práca sa zaoberá problematikou tenkých vrstiev, ich chovaniu v určitých prostrediach a ochrane týchto vrstiev pred nežiaducimi degradačnými procesmi. Kovové tenké vrstvy vytvárame pomocou špeciálnych metód fyzikálnych alebo chemických za prítomnosti vákua. Nanášanie prebieha na správne očistený substrát z rôzneho materiálu, napríklad sklo keramika či iný kov. Tieto vrstvy degradujú za pôsobenia vlhkosti, tepla či iných vplyvov. Na to aby sa zabránilo degradácii tenkých vrstiev sa používajú ochranné filmy z rôznych materiálov na rôznych bázach.
Tvorba motivů tenkovrstvými metodami
Ondráček, Michal ; Šimonová, Lucie (oponent) ; Šubarda, Jiří (vedoucí práce)
Diplomová práce se zabývá teorií technologie tenkých vrstev, zejména vytvářením těchto vrstev. Dále práce obsahuje rozdělení vakuových depozičních technik na fyzikální (PVD) a chemické (CVD). Hlavním cílem práce je vytvořit motivy různými způsoby realizace pomocí magnetronového naprašovacího zařízení a tyto motivy vyhodnotit z hlediska kvality naprášení.
Tenké vrstvy oxidu titaničitého připravené elektrochemicku cestou
Janov, Pavel ; Zatloukal, Miroslav (oponent) ; Sedlaříková, Marie (vedoucí práce)
Předkládaná práce se zabývá přípravami aktivních elektrochromických vrstev oxidu titaničitého a jejich interkalačních vlastností. Elektrodepozicí byla vytvořena aktivní vrstva na skleněných substrátech pokryté tenkou transparentní elektronovou vrstvou In2O3:Sn (ITO). Porovnávali se funkční vrstvy připravené elektrolyticky s funkčními vrstvami připravené vakuovými metodami. Dále se vyhodnocovali jejich elektrodové vlastnosti v elektrolytech obsahující lithium.
Electrodeposition of thin layers TiO2
Jakubis, Ivan ; Vondrák, Jiří (oponent) ; Sedlaříková, Marie (vedoucí práce)
This work deals with issues of electrochromism and making active electrochromic film of titanium dioxide. By using various precursors consisting titanium element active film was electrodeposited on glass substrates covered with transparent conductive thin-film In2O3:Sn (ITO). Electrochromic characteristics of these substrates that were electrodeposited for different times and with different voltage have been studied. Than there has been studied the impact of various annealing temperatures on electrochromic characteristics.
Plasma-enhanced chemical vapor deposition using TVS/Ar and TVS/O2 mixtures
Sadílek, Jakub ; Salyk, Ota (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
This study is aimed at basic research on a-SiC:H and a-SiOC:H alloys prepared in a form of thin films using plasma-enhanced chemical vapor deposition. These alloys were deposited from tetravinylsilane monomer and its mixtures with argon or oxygen gas at different effective powers under pulsed plasma. Deposited films were investigated by X-ray photoelectron spectroscopy, Fourier transform infrared spectroscopy, spectro-scopic ellipsometry, and nanoindentation to observe their chemical, optical, and me-chanical properties as a function of deposition conditions.
Simulace optické soustavy depozičního monitoru
Doleček, Roman ; Pintr, Pavel ; Václavík, Jan
Zpráva popisuje výsledek modelování stávajícího vysílací a přijímací optické soustavy systému pro monitorování procesu vakuové depozice. Výsledek je diskutován s pozorovanými vlastnostmi systému, zejména chování pro různé vlnové délky a optická propustnost. Na základě analýzy je provedena matematická optimalizace nastavení komponent systému s cílem zlepšení výkonu a robustnosti.
Vytváření tenkých vrstev pro aplikace pokročilých oxidačních procesů s využitím kovových dopantů
KRAJČOVIČ, Jan
Cílem této diplomové práce bylo nanesení tenkých vrstev TiO2 na různé typy a velikosti substrátů, přičemž některé vrstvy vytvořit s využitím dopantů železa nebo stříbra. V rámci práce byla nanesena řada vrstev TiO2 metodou magnetronového naprašování na aparatuře Dreva ARC 400 Hard Material Coating Plant. Hlavním cílem nanášení těchto vrstev bylo, pokusit se nanést tenké vrstvy TiO2 na substráty o větší ploše, než je při běžných laboratorních procesech běžné. Za tímto účelem byly vrstvy nanášeny na čtvercové skleněné destičky o straně 10 cm. Pro porovnání a zkoumání dalších vlastností nanesených vrstev byly jako substráty použity také mikroskopická sklíčka a úlomky z křemíkových destiček. Na těchto substrátech byla poté testována fotokatalytická aktivita a morfologie nanesených vrstev. Teoretická část této práce je zaměřena na používané metody nanášení tenkých vrstev TiO2 a jejich vlastnosti. V experimentální části je pak popsána použitá aparatura a parametry jednotlivých depozičních procesů. Dále je zde shrnutí vlastností nanesených vrstev a výsledky jednotlivých experimentů.
CVD Assisted Preparation of Nanonstructured Materials
Krabáč, Lubomír
Plný tet: SKMBT_C22013082212452 - Stáhnout plný textPDF
Plný text: content.csg - Stáhnout plný textPDF

Národní úložiště šedé literatury : Nalezeno 37 záznamů.   začátekpředchozí21 - 30další  přejít na záznam:
Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.