Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 21 záznamů.  1 - 10dalšíkonec  přejít na záznam: Hledání trvalo 0.01 vteřin. 
Gecko mimicking surfaces
Fecko, Peter ; Boušek, Jaroslav (oponent) ; Pekárek, Jan (vedoucí práce)
Adhesive capabilities of a gecko lizard have been the subject of many studies and an inspiration for many artificial imitations and inventions. This work proposes a design version of synthetic gecko structures in a form of micro-pillars, that would have similar adhesion capabilities as gecko setae. Structures made of Parylene C polymer have been created using photolithography and silicon etching techniques. Following focus was on various methods of surface modifications and characterisation of these structures to determine the adhesion forces on their surface, before and after modifications.
SELEKTIVNÍ EMITOR PRO TERMOFOTOVOLTAICKÉ SYSTÉMY
Šimonová, Lucie ; Hrzina,, Pavel (oponent) ; Šály,, Vladimír (oponent) ; Vaněk, Jiří (vedoucí práce)
Práce je zaměřena na výzkum a vývoj vhodné metody pro vytváření selektivního emitoru pro viditelnou a blízkou infračervenou oblast tak, aby byly schopné optimálně pracovat spolu s křemíkovými fotovoltaickými články v termofotovoltaickém systému. Cílem práce bylo vyvinout novou metodu vytváření velmi jemných struktur mimo běžný standard, které zvýší emisivitu základního materiálu tak, aby odpovídala potřebám selektivního emitoru pro VID a NIR oblast. Pro vytváření struktur byly voleny nám dostupné metody, z nichž jsme eliminovali všechny nevhodné a u vybrané metody jsme zavedli optimální postup a parametry pro jejich vytváření. V práci jsme se zaměřili jak na keramické tak na kovové materiály, jejichž tepelná odolnost a selektivní vlastnosti jsou klíčové pro tuto práci. Součástí vývoje struktur emitoru byly rovněž nutné předúpravy samotného substrátu, kde byl velký důraz kladen na čistotu materiálů a drsnost povrchu. Jelikož keramické materiály nemohou dosahovat drsnosti povrchu tak malou, aby bylo možné vytvářet požadované struktury, byly tyto materiály cíleně použity především pro účely kombinace základního materiálu s tenkými vrstvami dalšího vysokoteplotního materiálu. Jejich kompatibilita a vhodnost byly ověřovány z pohledu adheze a následné tepelné odolnosti. Hlavním materiálem pro tvorbu jemných struktur byl cíleně zvolen wolfram, u kterého jsem ověřovali vliv vytvořené struktury na emisivitu a rovněž tepelnou stálost při dlouhodobém vystavení vysokým teplotám. Práce tak představuje nejen novou metodu tvorby velmi jemných struktur, které se v takovéto jemnosti běžně nevytváření, ale také otevírá cestu novým možnostem kombinování více materiálů pro docílení požadované selektivity termofotovoltaického emitoru.
Konstrukce spektroskopického systému pro systém reaktivního iontového leptání
Šilhan, Lukáš ; Dostál, Zbyněk (oponent) ; Šerý, Mojmír (vedoucí práce)
Záznam emisního spektra plazmatu během reaktivního iontového leptání umožňuje charakterizaci leptaných látek a kontrolu nad leptacím procesem. V rámci této diplomové práce je navržen spektroskopický systém v konfiguraci Czerny-Turner, pro použití na systému reaktivního iontového leptání. Vyvinutý spektroskop dosahuje rozlišení 1 nm v oblasti 350-800 nm. Zařízení bylo testováno během reaktivního iontového leptání křemíku.
Konstrukce odměřovacího systému pro systém reaktivního iontového leptání
Maňka, Tadeáš ; Antoš, Martin (oponent) ; Šerý, Mojmír (vedoucí práce)
Cílem této diplomové práce je zkonstruovat funkční odměřovací systém pro systém reaktivního iontového leptání (RIE). V práci je použit předchozí návrh Michelsonova interferometru vyvinutého na Ústavu přístrojové techniky, v.v.i. (ÚPT). Teoretická část práce se věnuje problematice interferenčních metod pro přesné měření délek. V další části je popsán proces leptání pomocí RIE. V praktické části je navržena testovací sestava z dílů firmy Thorlabs. Na ní je odzkoušena funkčnost a přesnost měření je porovnána s profilometrem. Dalším krokem je optimalizace navržené sestavy. Byla vytvořena technická dokumentace a vyrobena odměřovací aparatura na míru pro účely pracovníků ÚPT.
Příprava fázových binárních mřížek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro výrobu optických vláknových senzorů
Krátký, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Mikel, Břetislav ; Helán, R. ; Urban, F.
Příspěvek se zabývá přípravou fázových binárních masek pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání pro potřeby výroby optických vláknových senzorů. Zkoumalo se ladění hloubky mřížek pro potlačení účinnosti různých kombinací nežádoucích difrakčních řádů pro danou periodu mřížky a její střídu. Byly porovnány teoretické simulace s měřeními na vyrobených mřížkách.
SMV-2021-31: TELIGHT zaměřovací obrazec
Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Chlumská, Jana ; Kolařík, Vladimír ; Krátký, Stanislav
Oblast vývoje se týká realizace přesných reliéfních struktur pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání. Vývoj technologie tvorby přesného fázového filtru planparalelního typu pro optické aplikace modifikací křemenných podložek pomocí přesného suchého leptání.
SELEKTIVNÍ EMITOR PRO TERMOFOTOVOLTAICKÉ SYSTÉMY
Šimonová, Lucie ; Hrzina,, Pavel (oponent) ; Šály,, Vladimír (oponent) ; Vaněk, Jiří (vedoucí práce)
Práce je zaměřena na výzkum a vývoj vhodné metody pro vytváření selektivního emitoru pro viditelnou a blízkou infračervenou oblast tak, aby byly schopné optimálně pracovat spolu s křemíkovými fotovoltaickými články v termofotovoltaickém systému. Cílem práce bylo vyvinout novou metodu vytváření velmi jemných struktur mimo běžný standard, které zvýší emisivitu základního materiálu tak, aby odpovídala potřebám selektivního emitoru pro VID a NIR oblast. Pro vytváření struktur byly voleny nám dostupné metody, z nichž jsme eliminovali všechny nevhodné a u vybrané metody jsme zavedli optimální postup a parametry pro jejich vytváření. V práci jsme se zaměřili jak na keramické tak na kovové materiály, jejichž tepelná odolnost a selektivní vlastnosti jsou klíčové pro tuto práci. Součástí vývoje struktur emitoru byly rovněž nutné předúpravy samotného substrátu, kde byl velký důraz kladen na čistotu materiálů a drsnost povrchu. Jelikož keramické materiály nemohou dosahovat drsnosti povrchu tak malou, aby bylo možné vytvářet požadované struktury, byly tyto materiály cíleně použity především pro účely kombinace základního materiálu s tenkými vrstvami dalšího vysokoteplotního materiálu. Jejich kompatibilita a vhodnost byly ověřovány z pohledu adheze a následné tepelné odolnosti. Hlavním materiálem pro tvorbu jemných struktur byl cíleně zvolen wolfram, u kterého jsem ověřovali vliv vytvořené struktury na emisivitu a rovněž tepelnou stálost při dlouhodobém vystavení vysokým teplotám. Práce tak představuje nejen novou metodu tvorby velmi jemných struktur, které se v takovéto jemnosti běžně nevytváření, ale také otevírá cestu novým možnostem kombinování více materiálů pro docílení požadované selektivity termofotovoltaického emitoru.
SMV-2019-05: Fázové mřížky
Krátký, Stanislav ; Matějka, Milan ; Chlumská, Jana ; Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Vývoj přípravy fázových mřížek pro použití ve spektroskopii materiálů. Během vývoje se prozkoumaly možnosti návrhu a přípravy fázových mřížek, které by byly naladěné na dvě odlišné vlnové délky. Teoretické simulace ukázaly, že se mřížka (hloubka mřížky) musí naladit na hodnotu mezi dvěmi zamýšlenými vlnovými délkami, aby se maximalizovaly účinnosti v prvních řádech pro obě vlnové délky. Vzorky byly následně vyrobeny pomocí elektronové litografie a reaktivního iontového leptání.
SMV-2019-04: Velkoplošné nanášení nanostruktur
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Vývoj sendvičových nanostruktur na dopovaném křemíkovém substrátu. Rozměry nanostruktur a jejich periodicita je na limitu rozměrů, které umožňuje připravit elektronový litograf Raith EBPG5000+. Na dopovaný křemíkový substrát byla připravena tenká nitridová vrstva jako maska pro následné leptání. Pomocí elektronové litografie a vakuového napařování byly nejdříve připraveny zlaté soukrytovací značky nutné pro provedení vícenásobné expozice. V dalším litografickém kroku byla naexponována maska v rezistu, přes kterou se pomocí reaktivního iontového leptání proleptala nitridová maska. Přes nitridovou masku došlo k vyleptání pyramid v křemíku. V třetím litografickém kroku byla pomocí různých strategií zápisu připravena druhá maska pro napaření hliníkové vrstvy v místech dříve vyleptaných pyramid. Proces byl dokončen provedením lift-off techniky okolní plochy.
SMV-2019-03: Tenké membrány
Krátký, Stanislav ; Matějka, Milan ; Chlumská, Jana ; Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Vývoj technologie přípravy tenkých nitridových membrán ve velké ploše pro potřeby spektroskopie pomocí pomalých elektronů. Během vývoje se vyzkoušelo několik různých technik pro přípravu tenkých membrán – mokré leptání, reaktivní iontové leptání, plasmatické leptání a nízkofrekvenční plasmatické leptání. Zároveň byla vyvinuta technika nepřímého měření takto tenkých membrán.

Národní úložiště šedé literatury : Nalezeno 21 záznamů.   1 - 10dalšíkonec  přejít na záznam:
Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.