|
|
Metoda termální desorpční spektroskopie (TDS) a její aplikace pro výzkum povrchových procesů
Potoček, Michal ; Čech, Vladimír (oponent) ; Pavlík, Jaroslav (oponent) ; Dub, Petr (vedoucí práce)
Metoda termální desorpční spektroskopie (TDS) je obecná metoda pro povrchovou analýzu adsorbovaných molekul. Práce se v 1. kapitole zabývá teoretickými základy této metody a ukazuje princip desorpčního procesu ovlivněného podpovrchovou difuzí. Kapitola 2 se nejprve věnuje praktickému využití metody TDS při detekci povrchových molekul a určením vazebné energie. Experimenty byly zaměřeny na detekci povrchových adsorbantů a nečistot na povrchu desek Si. Druhá část této kapitoly se zabývá desorpcí atomů tenkých vrstev Ga a jejich podpovrchovou difuzi. Proces difuze Ga byl také pozorován hmotnostní spektrometrií sekundárních iontů (SIMS) a numericky simulován.
|
|
| |
|
|
Monitorování plazmochemického procesu s využitím hmotnostní spektrometrie
Ondra, Zdeněk ; Čáslavský, Josef (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá plazmochemickou depozicí z plynné fáze (PECVD) a použitím hmotnostní spektrometrie ke sledování procesů v plazmatu během depozice tenké vrstvy. Při procesu tvorby tenké vrstvy nanášené na křemíkovou podložku byl použit elektrický výboj hořící v parách tetravinylsilanu. Bylo charakterizováno pozadí spektrometru, plazmového reaktoru se zbytkovými plyny při základním vakuu a monitorován proces plazmové polymerace. Tento děj byl monitorován za zvyšujícího se efektivního výkonu (2-150 W). Získaná hmotnostní spektra byla interpretována a podrobně popsána. Produkty plazmatu, které vykazovaly největší změnu, byly poté charakterizovány při měření časového průběhu během depozice vrstvy.
|
|
|
Surface free energy of plasma polymers
Klepáčková, Barbora Bella ; Dzik, Petr (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Changes of free surface energy of organosilicon plasma polymers according to their different deposition conditions were studied in this thesis. The free surface energy was evaluated using the Owens-Wendt-Kaelble, Wu and acid-base theory. Four different test liquids were used to determine contact angles (water, form amide, diiodomethane and glycerol). Measuring tetravinylsilane thin films with effective power of 2, 10, 25, 70 and 150 W showed a slightly increasing surface free energy.
|
|
|
Adheze a-SiOC:H vrstev na plošných substrátech
Lepcio, Petr ; Salyk, Ota (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá přípravou tenkých vrstev plazmových polymerů připravených metodou plazmochemické depozice z plynné fáze na plošných substrátech. Jako monomer byl použit tetravinylsilan. Byly připraveny dvě série vzorků. Vzorky první série byly připraveny při různých hodnotách efektivního výkonu z čistého tetravinylsilanu a vzorky druhé série byly připraveny z depoziční směsi tetravinylsilanu s různým obsahem kyslíku při stejném efektivním výkonu. Tloušťka vrstev byla stanovena spektroskopickou elipsometrií a chemická struktura infračervenou spektroskopií. Pro určení míry adheze byla použita vrypová zkouška, ze které byla stanovena kritická normálová síla selhání adheze vrstev. Podoba provedených vrypů byla získána pomocí mikroskopie atomárních sil (AFM). Ze získaných dat byla posouzena možnost zlepšení adheze změnou efektivního výkonu a obsahu kyslíku v depoziční směsi.
|
|
|
Povrchová topografie plazmových polymerů nanesených na rovinných a vláknových substrátech zkoumaná pomocí mikroskopie atomární síly
Kurakin, Yuriy ; Pálesch, Erik (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá charakterizaci morfologie tenkých vrstev plazmových polymerů, které byly připraveny z monomeru tetravinylsilanu a naneseny na plošné křemíkové substráty a skleněná vlákna typu E. Způsobem přípravy tenkých vrstev byla chemická depozice z plynné fáze (PE CVD). K charakterizaci morfologie povrchu byla pouţita metoda mikroskopie atomárních sil (AFM), pro kterou byla zpracována literární rešerše v teoretické části této práce. Ze získaných dat byla posouzena závislost povrchové topografie ve vztahu k depozičním podmínkám a velikostí zkoumané plochy a rovněţ byly navrhnuty způsoby jejích interpretace pro účely následné statistické analýzy.
|
|
|
Optimalizace plazmatických povrchových úprav skleněných vláken
Širjovová, Veronika ; Knob, Antonín (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Diplomová práce je věnována problematice povrchových úprav skleněných vláken nanáše-ných metodou plazmochemické depozice z plynné fáze za účelem přípravy funkční mezi-vrstvy zlepšující užitné vlastnosti polymerních kompozitů. Byl sledován vliv depozičních podmínek na smykovou pevnost výsledného kompozitu s ohledem na chemické složení nane-sené vrstvy. Tenké vrstvy byly deponovány na rovinné substráty a vláknovou výztuž za použití mono-meru tetravinylsilanu ve směsi s kyslíkem při vybraných výkonech plazmatického výboje. Chemické složení připraveného materiálu bylo analyzováno infračervenou spektroskopií, adheze vrstvy k rovinnému substrátu byla posuzována na základě výsledků vrypové zkoušky. Vložením upravených vláken do nenasycené polyesterové pryskyřice a následným vytvrze-ním byl připraven vzorek kompozitu, jenž byl podroben smykovému testu krátkých trámečků.
|
|
|
Chemická analýza a-CSi:H a a-CSiO:H vrstev
Olivová, Lucie ; Franta, Daniel (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Plazmochemická depozice z plynné fáze je perspektivní technologií pro přípravu materiálů ve formě tenkých vrstev s řízenými fyzikálně-chemickými vlastnostmi, které mohou být dle potřeby ovlivněny změnou vstupních prekurzorů či depozičních podmínek. V této práci byla plazmová nanotechnologie využita k syntéze tenkých vrstev na křemíkových substrátech. Jako prekurzor pro syntézu vrstev byl vybrán tetravinylsilan. Kromě čistého tetravinylsilanu byly jako vstupní prekurzory pro depozici vrstev využity také směsi tetravinylsilanu s argonem a směsi tetravinylsilanu s kyslíkem, a to v různém poměru zastoupení jednotlivých komponent v depoziční směsi. Pomocí chemických analýz, konkrétně infračervené spektroskopie, fotoelektronové spektroskopie a vybraných iontových technik, byla podrobně zkoumána chemická struktura připravených vrstev a byla sledována závislost této struktury na použitých depozičních podmínkách a vstupních prekurzorech. V práci bylo potvrzeno, že změnou efektivního výkonu dodávaného do výboje plazmatu a zvolením různých vstupních prekurzorů je možné řídit chemickou strukturu, a tedy i vlastnosti připravovaných nanovrstev.
|
|
|
Povrchová morfologie a-CSi:H vrstev připravených z tetravinylsilanu v nízkoteplotním plazmatu
Křípalová, Kristýna ; Pálesch, Erik (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá povrchovou morfologií a-CSi:H vrstev. Tyto vrstvy byly připraveny plazmochemickou depozicí z plynné fáze (PECVD) v pulzním režimu na křemíkových substrátech; jako prekurzor byl použit tetravinylsilan (TVS). Pro charakterizaci povrchu vrstev byla použita série vzorků připravených při různém efektivním výkonu (2-150 W) a tloušťce 0,6 µm. Povrchová morfologie byla měřena pomocí mikroskopie atomárních sil. Získaná data byla použita pro stanovení drsnosti povrchu a posouzení vlivu dynamiky růstu vrstvy na topografii povrchu.
|
|
|
Samovolně seskupené vrstvy na bázi křemíku
Bábík, Adam ; Veselý, Michal (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Byla studována problematika přípravy, charakterizace a vlastností samovolně seskupených monovrstev na bázi křemíku se zaměřením na SA monovrstvy připravené z vinyltriethoxysilanu a vinyltrichlorsilanu. Práce je zaměřena na základní vlastnosti SA monovrstev a popis jejich vzniku. Uvedeny jsou rovněž metody pro analýzu SA monovrstev. Podrobněji je popsáno měření kontaktního úhlu a stanovení volné povrchové energie. Připravené SA vrstvy byly zkoumány z hlediska složení a uspořádání jejich povrchu pomocí rentgenové fotoelektronové spektroskopie (XPS), elipsometrie a mikroskopie atomových sil (AFM).
|
host ::
RSS.