|
|
Adhesion characterization of thin plasma-polymer films
Pálesch, Erik ; Klapetek, Petr (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
The diploma thesis deals with characterization of adhesion of plasma polymer films deposited on silicon wafers. The samples included organosilicon thin films based on tetravinylsilane monomer prepared by plasma-enhanced chemical vapour deposition. Scratch test was used to characterize film adhesion employing nanoindentation measurements. Adhesion of plasma polymer films of different mechanical properties and film thickness was analyzed by normal and lateral forces, friction coefficient, and scratch images obtained by scanning probe microscope working in atomic force microscopy mode.
|
|
|
Povrchová topografie plazmových polymerů nanesených na rovinných a vláknových substrátech zkoumaná pomocí mikroskopie atomární síly
Kurakin, Yuriy ; Pálesch, Erik (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá charakterizaci morfologie tenkých vrstev plazmových polymerů, které byly připraveny z monomeru tetravinylsilanu a naneseny na plošné křemíkové substráty a skleněná vlákna typu E. Způsobem přípravy tenkých vrstev byla chemická depozice z plynné fáze (PE CVD). K charakterizaci morfologie povrchu byla pouţita metoda mikroskopie atomárních sil (AFM), pro kterou byla zpracována literární rešerše v teoretické části této práce. Ze získaných dat byla posouzena závislost povrchové topografie ve vztahu k depozičním podmínkám a velikostí zkoumané plochy a rovněţ byly navrhnuty způsoby jejích interpretace pro účely následné statistické analýzy.
|
|
|
Povrchová morfologie a-CSi:H vrstev připravených z tetravinylsilanu v nízkoteplotním plazmatu
Křípalová, Kristýna ; Pálesch, Erik (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá povrchovou morfologií a-CSi:H vrstev. Tyto vrstvy byly připraveny plazmochemickou depozicí z plynné fáze (PECVD) v pulzním režimu na křemíkových substrátech; jako prekurzor byl použit tetravinylsilan (TVS). Pro charakterizaci povrchu vrstev byla použita série vzorků připravených při různém efektivním výkonu (2-150 W) a tloušťce 0,6 µm. Povrchová morfologie byla měřena pomocí mikroskopie atomárních sil. Získaná data byla použita pro stanovení drsnosti povrchu a posouzení vlivu dynamiky růstu vrstvy na topografii povrchu.
|
|
|
Povrchová topografie a-CSi:H vrstev připravených v kontinuálním režimu PECVD
Blažková, Naďa ; Pálesch, Erik (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Diplomová práce se věnuje povrchové topografii a-CSi:H vrstev připravených v kontinuálním režimu plazmochemické depozice z plynné fáze (PECVD) na bázi monomeru tetravinylsilanu (TVS). Tenké vrstvy nacházejí široké využití v oblasti moderních technologií a jejich fyzikální a mechanické vlastnosti jsou ovlivněny metodou přípravy. V této diplomové práci byly tenké filmy deponovány na povrch křemíkového substrátu metodou plazmochemické depozice z plynné fáze s čistým prekurzorem TVS. Připravené vzorky byly topograficky charakterizovány pomocí mikroskopie atomární síly (AFM) a analyzována byla RMS drsnost, autokorelační délka a distribuce velikosti zrn na povrchu tenkých filmů. K charakterizaci byly připraveny dvě sady vzorků o různých výkonech a tloušťkách. Na základě výsledků byla vyhodnocena statistika objektů vyskytujících se na povrchu tenkých filmů připravených za různých depozičních podmínek.
|
|
| |
|
| |
|
|
Surface and Mechanical Properties of Thin Films
Pálesch, Erik ; Klapetek, Petr (oponent) ; Skuhurov,, Andrey (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
The doctoral thesis deals with the study of morphology and mechanical properties of thin plasma polymer films based on tetravinylsilane monomer and its mixtures with oxygen and argon. Thin films were prepared by plasma-enhanced chemical vapour deposition on silicon and glass substrates. Atomic force microscopy was used for characterization of thin film surface and for depiction of composite interphase with functional interlayer. Mechanical properties of thin films, namely Young’s modulus and hardness, were studied by cyclic nanoindentation technique. Nanoindentation device was also used to carry out scratch test, which was helpful to describe adhesion of films to substrate. In this thesis the influence of deposition conditions on surface and mechanical properties of thin films prepared in continual and pulse wave on planar substrates is discussed. Also, the suitability of few atomic force microscopy techniques for depiction of composite interphase was reviewed.
|
|
|
Povrchová morfologie a-CSi:H vrstev připravených z tetravinylsilanu v nízkoteplotním plazmatu
Křípalová, Kristýna ; Pálesch, Erik (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá povrchovou morfologií a-CSi:H vrstev. Tyto vrstvy byly připraveny plazmochemickou depozicí z plynné fáze (PECVD) v pulzním režimu na křemíkových substrátech; jako prekurzor byl použit tetravinylsilan (TVS). Pro charakterizaci povrchu vrstev byla použita série vzorků připravených při různém efektivním výkonu (2-150 W) a tloušťce 0,6 µm. Povrchová morfologie byla měřena pomocí mikroskopie atomárních sil. Získaná data byla použita pro stanovení drsnosti povrchu a posouzení vlivu dynamiky růstu vrstvy na topografii povrchu.
|
|
|
Povrchová topografie a-CSi:H vrstev připravených v kontinuálním režimu PECVD
Blažková, Naďa ; Pálesch, Erik (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Diplomová práce se věnuje povrchové topografii a-CSi:H vrstev připravených v kontinuálním režimu plazmochemické depozice z plynné fáze (PECVD) na bázi monomeru tetravinylsilanu (TVS). Tenké vrstvy nacházejí široké využití v oblasti moderních technologií a jejich fyzikální a mechanické vlastnosti jsou ovlivněny metodou přípravy. V této diplomové práci byly tenké filmy deponovány na povrch křemíkového substrátu metodou plazmochemické depozice z plynné fáze s čistým prekurzorem TVS. Připravené vzorky byly topograficky charakterizovány pomocí mikroskopie atomární síly (AFM) a analyzována byla RMS drsnost, autokorelační délka a distribuce velikosti zrn na povrchu tenkých filmů. K charakterizaci byly připraveny dvě sady vzorků o různých výkonech a tloušťkách. Na základě výsledků byla vyhodnocena statistika objektů vyskytujících se na povrchu tenkých filmů připravených za různých depozičních podmínek.
|
|
|
Povrchová topografie plazmových polymerů nanesených na rovinných a vláknových substrátech zkoumaná pomocí mikroskopie atomární síly
Kurakin, Yuriy ; Pálesch, Erik (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Tato bakalářská práce se zabývá charakterizaci morfologie tenkých vrstev plazmových polymerů, které byly připraveny z monomeru tetravinylsilanu a naneseny na plošné křemíkové substráty a skleněná vlákna typu E. Způsobem přípravy tenkých vrstev byla chemická depozice z plynné fáze (PE CVD). K charakterizaci morfologie povrchu byla pouţita metoda mikroskopie atomárních sil (AFM), pro kterou byla zpracována literární rešerše v teoretické části této práce. Ze získaných dat byla posouzena závislost povrchové topografie ve vztahu k depozičním podmínkám a velikostí zkoumané plochy a rovněţ byly navrhnuty způsoby jejích interpretace pro účely následné statistické analýzy.
|
host ::
RSS.