Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 87 záznamů.  1 - 10dalšíkonec  přejít na záznam: Hledání trvalo 0.00 vteřin. 
Silver micro drop structured twice around the earth
Meluzín, Petr ; Tryhuk, V. ; Horáček, Miroslav ; Knápek, Alexandr ; Krátký, Stanislav ; Matějka, Milan ; Kolařík, Vladimír
Planar micro structuring of thin metallic layers allows to achieve required surface properties of metallic layers covering bulk materials. Recently, the arrangement of micro holes or pillars placed around the primary spiral according to a phyllotactic model was presented. This deterministically aperiodic planar arrangement was used for benchmarking purposes of the e-beam writer patterning. This arrangement based on single primary spiral and a variety of derived secondary spirals has several interesting properties. One of them is a very low ratio between the area populated by individual micro elements and the length of the primary phyllotactic spiral. This paper presents analysis of the phyllotactic spiral length and the rising gradient at the spiral outer edge. The practical part of the presented work deals with the patterning of a thin silver layer deposited on the silicon or glass substrates using e-beam pattern generation, lithography techniques and related technologies. An interesting impact of the mentioned spiral properties on the e-beam writing strategies and the exposure ordering strategy are also discussed.
SMV-2018-05: Vývoj testovacích preparátů pro REM
Matějka, Milan ; Horáček, Miroslav ; Meluzín, Petr ; Chlumská, Jana ; Král, Stanislav ; Kolařík, Vladimír ; Krátký, Stanislav ; Knápek, Alexandr
Vývoj přesných reliéfních struktur v křemíku určených pro testování zobrazování v rastrovacích elektronových mikroskopech (REM). Pro přípravu preparátů byly využity mikro litografické techniky opracování křemíku. Byly vyvinuty přípravky pro technologické operace depozice a rezistu a pro operace leptání. Optimalizace bylo dosaženo i v oblasti transferu reliéfní struktury do křemíkové podložky při anizotropním leptání, díky modifikacím leptací aparatury. Pro kontrolu a vyhodnocení jakosti čipů mezi jednotlivými technologickými operacemi byly vyvinuty standardizované postupy.
SMV-2018-04: Planární mikrostruktury pro optické aplikace
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav ; Fořt, Tomáš ; Oulehla, Jindřich ; Pokorný, Pavel
Vývoj planárních mikrostruktur pro optické aplikace a následná realizace vzorků metodou elektronové litografie a dalších technik. Projekt zahrnuje studium materiálů vhodných pro vytvoření planární mikrostruktury v kovové vrstvě s ohledem na dosažitelné rozlišení a splnění požadavků na absorbanci v dané aplikaci. Elektronová litografie je použita pro vytvoření požadovaného motivu v rezistové vrstvě, která slouží jako maska pro leptání kovové vrstvy různými technikami (mokré leptání, reaktivní iontové leptání). Součástí projektu je i sepsání technické dokumentace o vyvinutých postupech a připravených vzorcích.
SMV-2018-03: Optimalizace přípravy difraktivních optických struktur
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti přípravy difraktivních optických elementů pomocí elektronové litografie s ohledem na možnosti kopírování jednotlivých typů struktur. Projekt se soustředí na optimalizaci datové přípravy difraktivních mřížek s různými tvary profilů. Různé typy mřížek jsou přípraveny pomocí elektronové litografie a budou použity jako srovnávací standard pro následně vyrobené kopie pomocí galvanického pokovování a lisování do fólie. Připravené struktury jsou analyzovány na mikroskopu atomárních sil a elektronovém rastrovacím mikroskopu.
SMV-2018-02: Analýza planárních mikrostruktur vytvářených kombinovaným způsobem zápisu
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj materiálů, technologických postupů a metodiky vytváření planárních mikrostruktur. Příprava a vyhodnocení vlastností tenkých vrstev vhodných pro zápis planárních mikrostruktur, analýza mikrostruktur na elektronovém a konfokálním mikroskopu, příprava masek na litografu pro kombinované expozice, využití dalších technologií – např. UV soukrytovačky masek, RIE a dalších, ověření navržené metodiky, vyhodnocení dosažitelných parametrů, sepsání písemné zprávy.
SMV-2018-01: Reliéfní struktury na principu difraktivní optiky
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur na principu difraktivní optiky prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném křemíkovou nebo skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální realizace reliéfních struktur, vypracování a analýzu technologie realizace reliéfní struktury s ohledem na limity současných vědeckých přístrojů, ověření teoretických úvah expozicí vzorku reliéfní struktury.
Creation of electron vortex beams using the holographic reconstruction method in a scanning electron microscope
Řiháček, Tomáš ; Horák, M. ; Schachinger, T. ; Matějka, Milan ; Mika, Filip ; Müllerová, Ilona
Electron vortex beams (EVB) were theoretically predicted in 2007 and first experimentally\ncreated in 2010. Although they attracted attention of many researchers, their\ninvestigation takes place almost solely in connection with transmission electron microscopes (TEM). On the other hand, although scanning electron microscopes (SEM) may provide some advantages for EVB applications, only little attention has been dedicated to them. Therefore, the aim of this work is to create electron vortices in SEM at energies of several keV.
Hiding e-beam exposure fields by deterministic 2D pattering
Horáček, Miroslav ; Knápek, Alexandr ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Urbánek, M. ; Mika, Filip ; Kolařík, Vladimír
The high stability and good current homogeneity in the spot of the e-beam writer is crucial to\nthe exposure quality, particularly in the case of large-area structures when gray-scale\nlithography is used. Even though the deflection field distortion is calibrated regularly and\nbeam focus and beam astigmatism is dynamically corrected over the entire deflection field, we can observe disturbances in the exposed relief.\nRecently, we presented a method that makes use of e–beam exposure imperfection by\nintroducing marginally visible high–frequency diffraction gratings of variable pitch that fill in\nseparate orthogonal exposure fields. The actually presented approach follows up our\nresearch on aperiodic arrangements of optical primitives, especially on the phyllotactic–\nlike arrangement of sub–micron relief optical elements. This approach is extended from the\ndiffraction element arrangement to the higher level of exposure fields arrangements.
Lift-off technology for thick metallic microstructures
Krátký, Stanislav ; Horáček, Miroslav ; Meluzín, Petr ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Oulehla, Jindřich ; Pesic, Z.
This paper deals with a method enabling the preparation of thick metallic microstructures on metal substrates. Such metallic microstructures can be used as a resolution samples to characterize various microanalysis techniques, such as X-ray fluorescence (XRF) or X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Moreover, the\npatterned samples could be used as anodes to characterize focusing properties of X-ray tubes for micro CT systems. Considering that the standard lift-off technique is designated for structures with the thickness of several hundred nanometers at most, we had to modify lift-off technique to be possible to use it for preparation of very thick metal layers (several microns) with spatial resolution of a few microns. The mask with the desired pattern for UV exposure was prepared by e-beam lithography. SU-8 photoresist was used for a lift-off because of its aspect ratio ability, process purity and high resistance to heating. We used a thin layer of PMMA under the SU-8 masking layer to guarantee the photoresist would lift-off correctly. Thick aluminum layer was deposited by thermal evaporation. The dependence of metal layer thickness as a function of required exposed\nline width was determined. The final lift-off process was carried out in acetone ultrasonic bath. Generally, this technology can be used for the evaporate deposition of various materials with several microns thick layer in\nmicron resolution.
SMV-2017-27: Charakterizace vzorků s deponovanými tenkými vrstvami
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav
Vývoj planárních mikrostruktur pro optické aplikace, realizace vzorků metodou elektronové litografie a následná charakterizace vzorků. Projekt zahrnuje zpracování a analýzu technického zadání, návrh optimální planární mikrostruktury realizující požadované vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální a technologické realizace mikrostruktur s ohledem na limity vědeckých přístrojů, kterými disponujeme ve své laboratoři, přípravu datových vstupů pro expozici na elektronovém litografu, vlastní realizaci vzorků, vyhodnocení těchto vzorků a zpracování technické dokumentace.

Národní úložiště šedé literatury : Nalezeno 87 záznamů.   1 - 10dalšíkonec  přejít na záznam:
Viz též: podobná jména autorů
12 MATĚJKA, Martin
21 MATĚJKA, Milan
2 Matějka, M.
1 Matějka, Marcel
1 Matějka, Marek
12 Matějka, Martin
2 Matějka, Michal
2 Matějka, Miroslav
1 Matějka, Miroslav Pacifik
Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.