|
|
IMPEDANCE MEASUREMENT OF GAS SENSORS WITH NICKEL(II)-AND COPPER(II)-OXIDE ACTIVE LAYERS
Horák, Pavel ; Khun, J. ; Vrňata, M. ; Bejšovec, Václav ; Lavrentiev, Vasyl ; Vacík, Jiří
Thin layers (90 nm) of nickel(II)- and copper(II)- oxide were deposited onto ceramic sensor substrates equipped with interdigital electrodes for signal reading. The deposition was carried out in two or three steps: (i) sputtering by means of Ar ion beam from pure (99.99%) metal targets, (ii) following thermal oxidation (400 degrees C for 5 h) in air, (iii) in some cases - sputtering of Pd catalyst to the surface. Then the impedance response of produced sensors (NiO, NiO+Pd, CuO, CuO+Pd) to 1000 ppm of hydrogen and 1000 ppm of methanol vapor was measured. Impedance measurements were performed in the frequency range from 40 Hz to 100 MHz. The obtained data were depicted in Nyquist representation (i.e. imaginary vs. real part of complex impedance). These diagrams have a character of one complete and one incomplete semicircle, each of them corresponding to a parallel RC-element. It was proved, that both NiO and CuO behave like p-type semiconductors; the sensor impedance increases on exposure to reducing gases. The best sensitivity was achieved on NiO+Pd sensor - during detection of hydrogen (1000 ppm) the real part of complex impedance measured at 40 Hz increased from 120 to 350 Omega.
|
|
|
Characterization of the Nanostructured Nickel Oxide Layers Prepared by Ion Beam Sputtering
Horák, Pavel ; Bejšovec, Václav ; Lavrentiev, Vasyl ; Khun, J. ; Vrňata, M.
Nanostructured nickel oxide layers (thickness cca 100 nm) were prepared by bombardment of nickel foil with ion beam created from a mixture of argon and oxygen. Different volume ratios of argon:oxygen mixture were used, ranging from 4:1 to 1:3. Composition of the resulting layers was analyzed by RBS, morphology by AFM and main crystal orientation of the sample by XRD. The electrophysical properties (resistivity, concentration of charge carriers) were measured by four point Van der Pauw technique and Hall measurement respectively. Prepared samples were characterized in as-deposited state and after annealing with varying temperature of treatment. Chemical composition (i.e. stoichiometry) of the as-deposited samples with different argon: oxygen ratio was related to their electrophysical parameters. Hall measurements are showing majority charge carriers to be electrons - surface concentration (0.5 - 2.3) x 10(21) m(-2) - suggesting prevailing metallic conductivity. Resistivity of the sample is increasing with higher amount of oxygen in gas mixture. The as-deposited layer is almost amorphous with no visible grains on AFM.
|
|
|
Implementace procesního řízení v podmínkách malé obchodní organizace
Semerák, Jiří ; Chlapek, Dušan (vedoucí práce) ; Khun, Jiří (oponent)
Cílem této práce bylo ověřit možnost použití procesního řízení v podmínkách malé obchodní firmy a vytvořit metodiku, která by obecně popsala jednotlivé kroky implementace. Metodika je určena pro malé a střední firmy, které jsou postaveny před potřebu optimalizace podnikových procesů a nebo stojí před problémem transformace ve větší firmu. Práce je rozdělena do tří částí. První část zahrnuje teoretický základ. Skládá se z popisu historického vývoje procesního řízení, definice procesů a procesního řízení s ukázkami přístupů různých autorů. Dále jsou zde popsány metodiky starší i novější. V další, praktické části, je práce zaměřena na samotnou implementaci procesního řízení. Implementace je pojata jako projekt a je rozdělena do analytické části, ve které je rozebrána pozice firmy a její hlavní cíle a částí kde je vypracován návrh nového způsobu řízení, popsána implementace, testování, vyhodnocení a fáze definice dalších možných vylepšení podnikových procesů. V poslední části jsou slovně popsány jednotlivé kroky vyvinuté metodiky implementace procesního řízení v podmínkách malé obchodní firmy, které jsou doplněny schématem postupu implementace.
|
host ::
RSS.