Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 1 záznamů.  Hledání trvalo 0.00 vteřin. 
Optimalizace a testování ITO vrstev
Hlubuček, Jiří
Všechny depozice ITO probíhaly za pokojové teploty na BK7 substrát tloušťky 80 mm. Během, někdy i po depozici, se teplota v komoře mírně zvyšovala především při použití asistenčního děla, nikdy však nepřesáhla 40 °C. Rychlost odprašování je relativně vysoká, proto byly použity relativně nízké výkony primárního iontového děla (KDC). Optimalizovala se příprava bez i s použitím asistenčního iontového děla (IBAD) s kyslíkovým nebo kyslíkovo-argonovým výbojem. Rychlost depozice určena podle krystalového monitoru (CRY), reálná se mírně liší podle typu depozice. Tloušťky vrstev určeny na základě měření elipsometru. Odpor měřen přiložením kontaktů na okraje vzorku v prostředku podél homogenní tloušťky vrstvy.

Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.