|
|
Deformation of thin self-standing mask at inhomogeneous irradiation.
Koláček, Karel ; Schmidt, Jiří ; Frolov, Oleksandr ; Štraus, Jaroslav ; Chalupský, Jaromír ; Choukourov, A.
Flatness of the mask is one of key features influencing the quality of image. Among factors that can affect mask flatness belongs inhomogeneous illumination. This does not apply to lithography, but to experiments that use only discrete parts of mask e.g. for nanostructuring or other type of material research. It is shown that even single EUV laser shot (laser wavelength ~46.9 nm, pulse duration ~1.5 ns, focused pulse energy ~20 .mu.J, peak fluency 48 J/cm2) not only deforms the mask, but also changes mask-substrate distance. In our case two kinds of grids (one circular with rectangular windows 7.5x7.5 μm and bars 5 micro m (period 12.5x12.5 micro m), other rectangular with rectangular windows 3.2x1.2 μm and bars 0.8 micro m (period 4x2 micro m)) were attached to PMMA substrate and exposed to one or five superimposed focused laser shots. The mask (grid) deformation was inferred from the changes of diffraction pattern engraved into PMMA.
|
|
|
Density matrix renormalization group calculations and entanglement optimization in quantum chemistry
Antalík, Andrej ; Pittner, Jiří (vedoucí práce) ; Chalupský, Jaromír (oponent)
Renormalizační grupa matice hustoty (DMRG) je numerická metoda s původem ve fyzice pevné fáze. Od svého uvedení na poli kvantové chemie byla úspěšně aplikována na řadu netriviálních problémů, přičemž se ukázala zvláště účinná pro systémy silně multireferenčního charakteru. Jelikož není invariantní vůči změně pořadí orbitalů, implementovali jsme automatickou proceduru využívající analýzy entanglementu a Fiedlerovy metody. Dále jsme navrhli techniku výběru aktivního prostoru založenou na zkoumání jednoor- bitálních entropií. Vycházeli jsme ze studie Berarda a spol., ve které zkou- mali excitované stavy klastrů TiO2 metodami EOM-CC. Spočetli jsme čtyři nejnižší singletní excitované stavy pro monomer, dimer a trimer metodou DMRG. Pro monomer jsme dosáhli dobré shody pro dva stavy, ukázalo se však, že pro přesnější výsledky bude nezbytné zahrnout dynamickou korelaci. V případě dimeru jsme dosáhli shody s výsledky EOM-CCSDT výpočtů a pro trimer je potřeba dodatečných výpočtů. 1
|
|
|
Generace koherentního krátkovlnného ( <160nm) záření pomocí konvenčních laserů
Chalupský, Jaromír ; Malý, Petr (vedoucí práce) ; Krása, Josef (oponent)
Teoretická část této práce podává přehled metod využívaných ke generování krátkovlnného koherentního záření. Popisuje přímé laserové a nepřímé koherentní zdroje VUV a XUV záření založené na nelineárních optických jevech. Dále je pojednáno o laserech na volných elektronech. Přehled principů generace záření a jeho vlastností nám slouží k posouzení využití takových zdrojů k různým účelům. Exponovány jsou též problémy spojené s manipulací svazkem krátkovlnného (tj. VUV/XUV) záření. Praktická část shrnuje výsledky experimentů, kterých jsme docílili s laserem na volných elektronech FLASH (Free Electron LASer in Hamburg; dříve VUV FEL) provozovaným v DESY. Popisuje metody a přístroje, které jsme používali ke studiu ablace materiálů a k měření emisních optických spekter ablačního oblaku. Hlavním cílem práce bylo stanovit prahy ablace a efektivní atenuační délky v polymethylmetakrylátových (PMMA), křemíkových a jiných (a-SiO2) vzorcích ozařovaných pulsním (~30fs) krátkovlnným (32nm) vysokovýkonovým laserovým zdrojem. Zachytili jsme čárovou emisi křemíkového plazmatu generovaného fokusovaným svazkem FLASH.
|
|
| |
host ::
RSS.