|
|
Controlled structuring of self-assembled polystyrene microsphere arrays by two different plasma systems
Domonkos, Mária ; Ižák, Tibor ; Stolcova, L. ; Proška, J. ; Kromka, Alexander
In this study we present a successful manipulation of microspheres by reactive ion etching (RIE). A self-assembled monolayer close-packed array of monodisperse polystyrene microspheres (PM) with diameter of 471 nm was used as the primary template. The PM templates were processed in two different RIE systems: (i) capacitively coupled radiofrequency plasma (CCP) and (ii) dual plasma system which combines CCP and pulsed linear-antenna microwave plasma (PLAMWP). The influence of process conditions on the PM geometry was systematically studied by scanning electron microscopy (SEM). It was found out that choosing optimal parameters results in a tunable diameter of PM with various shapes (from spheres to pyramid-like structures) while keeping their periodic hexagonal ordering.
|
|
|
Controlled structuring of self–assembled polystyrene microsphere arrays by two different plasma systems
Domonkos, Mária ; Ižák, Tibor ; Štolcová, L. ; Proška, J. ; Kromka, Alexander
In this study we present a successful manipulation of microspheres by reactive ion etching (RIE). A self-assembled monolayer close-packed array of monodisperse polystyrene microspheres (PM) with diameter of 471 nm was used as the primary template. The PM templates were processed in two different RIE systems: (i) capacitively coupled radiofrequency plasma (CCP) and (ii) dual plasma system which combines CCP and pulsed linear-antenna microwave plasma (PLAMWP). The influence of process conditions on the PM geometry was systematically studied by scanning electron microscopy (SEM). The process conditions were controlled by varying radiofrequency (RF) power, gas mixture (O2:CF4 ratio) and process duration.
|
|
|
Reactive ion etching of polystyrene microspheres
Domonkos, Mária ; Ižák, Tibor ; Štolcová, L. ; Proška, J. ; Kromka, Alexander
This article gives a brief insight also into the principle of the nanosphere lithography and various plasma systems focusing on their properties and applicability for a subsequent topographical modification of surfaces prepared by NS lithography. In the experimental part of this study we present a successful manipulation of microspheres by reactive ion etching (RIE). A self-assembled monolayer close-packed array of monodisperse polystyrene microspheres is used as the primary template. The polystyrene microspheres (PM) were processed in capacitively coupled radiofrequency plasma (CCP) RIE system. The influence of process conditions on the PM geometry is systematically studied by scanning electron microscopy. The process conditions are controlled by varying radiofrequency power, total pressure, composition of the gas mixture (ratio O2:CF4) and process duration.
|
|
|
KRESBA JAKO PROSTŘEDEK POZNÁVÁNÍ TRADIC VÁNOČNÍ ČAS (PŘEDŠKOLNÍ VĚK)
ŠIMKOVÁ ŠTOLCOVÁ, Lenka
Práce je zaměřena na kresbu předškolních dětí. Její význam a využití pro poznávání tradic, konkrétně ve vánočním čase. Práce je rozdělena na dvě části, a to teoretickou a praktickou část. Teoretická část se zaměřuje na vysvětlení jednotlivých pojmů, jako je kresba a její důležitý význam v předškolním věku. Popisuje tvořivost jako hlavní faktor, který ovlivňuje výtvarnou činnost a potřebu rozvíjet ji. Charakterizuje předškolní věk a jeho vývoj. Poukazuje na nutnost spolupráce rodičů a předškolního zařízení. Dále se zaměřuje na tradice a její aspekty pro lidský život. Jejich spojitost s ročním obdobím a navození tématu vánoční čas pro dětskou výtvarnou tvorbu. Praktická část mé práce je z velké části věnována motivaci a posléze realizaci výtvarné tvorby na téma ?Štědrý den v Betlémě?. Děti v mateřské škole byly motivovány pomocí četby pohádek, biblického příběhu, hry, zpěvu a dramatického ztvárnění. Zadání proběhlo v souladu se zásadami správného vedení výtvarné činnosti. Práce je zakončena ukázkami dětských kreseb a také zpětnou vazbou, která formou dotazů položených dětem s časovým odstupem doplňuje celkové vyhodnocení výtvarného dne.
|
host ::
RSS.