|
|
Plasmochemické úpravy oxidických polovodičových fotoanod
Ďurašová, Zuzana ; Zita, Jiří (oponent) ; Dzik, Petr (vedoucí práce)
Diplomová práca sa zaoberá plazmochemickou úpravou fotoanód, ktoré sú tvorené aktívnou vrstvou, obsahujúcou TiO2, deponovanou na dvoch rôznych substrátoch pomocou techniky materiálovej tlače. Pre proces plazmochemickej úpravy bola použitá nízkoteplotná atmosférická plazma, využívajúca difúzny koplanárny povrchový bariérový výboj (DCSBD). Experimentálna časť je zameraná na skúmanie vplyvu DCSBD na zhotovené fotoanódy, ktoré obsahujú rôzny počet aktívnych vrstiev, v závislosti na dĺžke pôsobenia plazmochemickej úpravy. Zároveň bola vykonaná optimalizácia procesu, nastavovaním výšky elektródy, na ktorej sa generuje DCSBD. Pre elektrochemickú charakterizáciu vrstiev bola použitá lineárna voltampérometria a chronoampérometria.
|
|
|
Plasmochemické úpravy oxidických polovodičových fotoanod
Ďurašová, Zuzana ; Zita, Jiří (oponent) ; Dzik, Petr (vedoucí práce)
Diplomová práca sa zaoberá plazmochemickou úpravou fotoanód, ktoré sú tvorené aktívnou vrstvou, obsahujúcou TiO2, deponovanou na dvoch rôznych substrátoch pomocou techniky materiálovej tlače. Pre proces plazmochemickej úpravy bola použitá nízkoteplotná atmosférická plazma, využívajúca difúzny koplanárny povrchový bariérový výboj (DCSBD). Experimentálna časť je zameraná na skúmanie vplyvu DCSBD na zhotovené fotoanódy, ktoré obsahujú rôzny počet aktívnych vrstiev, v závislosti na dĺžke pôsobenia plazmochemickej úpravy. Zároveň bola vykonaná optimalizácia procesu, nastavovaním výšky elektródy, na ktorej sa generuje DCSBD. Pre elektrochemickú charakterizáciu vrstiev bola použitá lineárna voltampérometria a chronoampérometria.
|
host ::
RSS.