Název: Photolitography on flexible substrates
Autoři: Urbánek, M. ; Urbánek, P. ; Kuřitka, I. ; Kolařík, Vladimír
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: International Conference on Nanomaterials - Research and Application (NANOCON) /9./, Brno (CZ), 20171018
Rok: 2018
Jazyk: eng
Abstrakt: Nowadays preparation of structures on flexible substrates is highly demanded because of using this patterns in field of flexible electronics. This contribution deals with photolitographic procces for preparation of structures on flexible substrates. The method of photolitography enables to create designed patterns in various material (e.g. metals as conductive layers) on various substrates (silicon wafers, foils, etc.). First the designed pattern is exposed through the mask by UV light into polymer resist, then the pattern is transfered into metal layer by wet etching through the developed windows in resist. In this paper several patterns are prepared through the positive resist PMMA by photolitography into various metal layer (Cu, Al) on flexible substrates.
Klíčová slova: flexible substrates; metal layer; photolithography
Zdrojový dokument: 9th International conference on nanomaterrials - research & application (NANOCON 2017). Proceedings, ISBN 978-80-87294-81-9

Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0292609

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-391563


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav přístrojové techniky
Konferenční materiály > Příspěvky z konference
 Záznam vytvořen dne 2019-02-13, naposledy upraven 2019-10-20.


Není přiložen dokument
  • Exportovat ve formátu DC, NUŠL, RIS
  • Sdílet