Original title: Technologie přípravy hlubokých struktur v submikronovém rozlišení
Translated title: Submicron Structures with Deep Relief — Technology of Preparation
Authors: Matějka, Milan ; Kuřitka,, Ivo (referee) ; Mgr. Petr Klapetek Ph.D (referee) ; Kolařík, Vladimír (advisor)
Document type: Doctoral theses
Year: 2017
Language: cze
Publisher: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií
Abstract: [cze] [eng]

Keywords: 3D lithography; data preparation; Electron beam lithography (EBL); MEMS; microfabrication; microstructures; microtechnology; plasma processes; proximity effect correction (PEC); proximity effect simulation (PES); silicon etching; 3D litografie; datová příprava; Elektronová litografie (EBL); korekce jevu blízkosti (PEC); leptání křemíku; MEMS; mikro-struktury; mikro¬technologie; mikro¬výroba; plasmatické procesy; simulace jevu blízkosti (PES)

Institution: Brno University of Technology (web)
Document availability information: Fulltext is available in the Brno University of Technology Digital Library.
Original record: http://hdl.handle.net/11012/63155

Permalink: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-256584


The record appears in these collections:
Universities and colleges > Public universities > Brno University of Technology
Academic theses (ETDs) > Doctoral theses
 Record created 2016-09-20, last modified 2022-09-04


No fulltext
  • Export as DC, NUŠL, RIS
  • Share