Název: Depozice Al a AlN ultratenkých vrstev na křemíkový a grafenový substrát
Překlad názvu: The deposition of Al and AlN ultrathin layers on silicon and graphene substrate
Autoři: Řihák, Radek ; Čech, Vladimír (oponent) ; Mach, Jindřich (vedoucí práce)
Typ dokumentu: Diplomové práce
Rok: 2016
Jazyk: cze
Nakladatel: Vysoké učení technické v Brně. Fakulta strojního inženýrství
Abstrakt: [cze] [eng]
Tato diplomová práce se zabývá přípravou a analýzou ultratenkých vrstev hliníku a nitridu hliníku. Vrstvy byly připraveny depozicí z efuzních cel navržených v rámci předchozí bakalářské práce autora. Jejich konstrukce a testování je v práci rovněž zahrnuta. Experimentálně byly zkoumány vlastnosti hliníkových vrstev na nativním oxidu křemíku, křemíku a grafenu. Rovněž je zde popsána příprava nitridu hliníku pomocí dusíkového iontového zdroje. This master's thesis deals with preparation and analysis of ultrathin films of aluminum and aluminum nitride. Films were prepared by effusion cells designed in previous bachelor's thesis. Cell construction and testing is included in this thesis. Behavior of aluminum on silicon dioxide, silicon and graphene was studied. Preparation of aluminum nitride by effusion cell and nitrogen ion source is described.
Klíčová slova: efuzní cela; Hliník; MBE; nitrid hliníku; UHV; ultratenké vrstvy; Aluminum; aluminum nitride; effusion cell; MBE; UHV; ultrathin films

Instituce: Vysoké učení technické v Brně (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Plný text je dostupný v Digitální knihovně VUT.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11012/60737

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-254277


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Školství > Veřejné vysoké školy > Vysoké učení technické v Brně
Vysokoškolské kvalifikační práce > Diplomové práce